در فرآیند لیتوگرافی، عملیات حرارت دادن فوتورزیست، یک مرحلهی قبل از شروع فرآیند نیست؛ بلکه این عملیات، پایهای برای کنترل ضخامت خطوط روی ویفر است. اگر دمای سطح گرم، تغییر کند، یکنواختی ویفر نیز تحت تأثیر قرار خواهد گرفت و مقدار مواد باطله تولید شده نیز به سرعت افزایش خواهد یافت.
آنچه واقعاً اهمیت دارد
ما این پلتفرم گرمایشی را بر اساس یک اصل ساختهایم: عملکرد دمایی قابل تکرار. این پلتفرم، دمای ویفر را در محدودهی ±۰.۱ درجه سانتیگراد نگه میدارد؛ بنابراین پروفایلهای حرارتی مربوط به فرآیندهای مختلف، در هر بار اجرا، یکسان خواهد ماند. این دستگاه از امواج مادون قرمز کوتاه و قطعات کوارتزی برای گرم کردن ویفر استفاده میکند؛ این امر باعث افزایش سرعت گرم شدن و کاهش تفاوتهای دمایی میشود، بدون ایجاد نقاط گرم.
این پلتفرم برای کار در محیطهای تمیز طراحی شده است؛ در محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰، این پلتفرم باعث کاهش گازهای تولید شده و عدم ایجاد ذرات در محل فرآیند میشود. مصرف انرژی نیز از طریق جریان هوای چرخشی و سیستمهای با کارایی بالا، کاهش مییابد؛ این امر باعث کاهش مصرف انرژی بدون ایجاد تأخیر در فرآیند تولید میشود.
چرا این پلتفرم در تولید موفق عمل میکند?
در کارخانههایی که فرآیندهای تولید متنوعی دارند، پایداری فرآیند بین دورههای تولید، مشکل اصلی است. این پلتفرم، دمای ویفر را در هر بار اجرا کنترل میکند؛ بنابراین یکنواختی فوتورزیست حفظ میشود و نیاز به تعمیرات کاهش مییابد. سرعت گرم شدن و سرد شدن ویفر، زمان فرآیند را کاهش میدهد؛ بنابراین میزان تولید در هر دوره افزایش مییابد.
صرفهجویی در مصرف انرژی نیز در طول ۲۴ ساعت شبانهروز مشهود است؛ مصرف انرژی به ازای هر ویفر کاهش مییابد، بار سرمایشی کمتر میشود و هزینههای مربوط به مصرف انرژی نیز کاهش مییابد. قابلیت اطمینان این پلتفرم نیز در فرآیندهای مداوم ثابت شده است؛ در طی چندین ماه کار، هیچ توقف غیرمنتظرهای در فرآیند تولید رخ نداده است.
جزئیات عملیاتی
برای نصب این پلتفرم، نیاز به منبع تغذیهی تمیز و پایدار وجود دارد؛ همچنین، نیاز به اتصال مناسب این پلتفرم به سیستمهای حرارتی نیز وجود دارد. استفاده از بارهای الکتریکی نامناسب یا تغییرات دمایی ناخواسته، باعث کاهش یکنواختی ویفر میشود. این پلتفرم میتواند در اکثر سیستمهای موجود استفاده شود؛ اما برای اطمینان از عملکرد صحیح آن، نیاز به یک آزمایش کوتاه وجود دارد.
برای سازگاری این پلتفرم با سیستمهای لیتوگرافی موجود و رسیدن به استانداردهای مربوط به دما و ذرات، حدود دو هفته زمان لازم است.