リソグラフィー工程において、フォトレジストの加熱処理は単なる前処理段階ではありません。それは、線幅制御を実現するための重要な要素です。もし加熱プレートの位置がずれてしまうと、ウェハ全体の均一性も同じように乱れてしまい、不良品の量が急激に増えてしまいます。
実際に重要なのは何か？
私たちがこの加熱プラットフォームを設計した際に重視したのは、再現性の高い温度管理です。ウェハ全体にわたって、設定温度を±0.1℃以内に保つことができるので、ソフトベイクやハードベイクの条件も毎回同じ状態を維持できます。ヒーターには石英製の部品が使われており、短波長の赤外線を利用することで、迅速な温度上昇と安定した熱伝達が可能になります。また、ホットスポットも発生しません。
この装置はクリーンルームでの使用に最適化されており、クラス1～100の環境下でも、排出ガスが少なく、プロセスインターフェースでの粒子の発生もありません。空気の循環と高効率な駆動装置により、エネルギー消費を減らしつつ、熱的な遅れも防ぎます。
なぜ生産現場で信頼できるのか？
多品種少量生産の工場では、ロット間の安定性が大きな課題です。この装置により、各ウェハの温度が安定し、フォトレジストの特性が再現されるため、再作業が削減されます。迅速な温度上昇と冷却により、サイクルタイムが短縮され、より多くのウェハを処理できます。
24時間365日稼働しても、エネルギー節約の効果は明らかです。ウェハあたりの電力消費が減り、冷却負荷も軽減され、料金も削減されます。数ヶ月にわたる連続運用でも、加熱モジュールに起因する予期せぬ停止は一切ありません。
実用面での詳細
設置には専用のクリーンな電源供給が必要であり、チャスisへの適切な熱的固定も必要です。バスバーの不整合や環境の変動は、ウェハの均一性を損ないます。このプラットフォームはほとんどのトラックに適合しますが、最適な性能を得るためには、短時間の試運転が必要です。
既存のリソグラフィー装置との連携を図り、初回運用で粒子数や温度の要件を満たすには、約2週間の調整期間が必要です。