Di bahagian proses litografi, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah langkah yang dilakukan sebelum proses pemprosesan bermula. Sebaliknya, ia merupakan langkah penting untuk mengawal ketepatan garis lebar garisan yang dihasilkan. Jika suhu permukaan pemanas berubah, maka keseragaman kualiti CD juga akan terjejas, dan jumlah bahan sisa yang dihasilkan akan meningkat dengan cepat.
Apa yang benar-benar penting
Kami merancang platform pemanasan ini berdasarkan satu prinsip utama: prestasi suhu yang boleh dipercayai. Suhu pada permukaan wafer dapat dikekalkan dalam lingkungan ±0.1°C, agar profil pemanasan tetap sama setiap kali proses berulang. Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah jarak dekat bersama komponen kuarsa, sehingga memungkinkan peningkatan suhu dengan cepat tanpa adanya kawasan panas yang berlebihan.
Platform ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih, dan mampu beroperasi dalam persekitaran kelas 1–100, dengan pengeluaran gas yang rendah serta tiada pembentukan zarah di titik pertemuan proses. Penggunaan tenaga dapat dikurangkan melalui aliran udara yang berulang-ulang serta sistem penggerak yang efisien, sehingga mengurangkan penggunaan tenaga tanpa menambah beban haba yang boleh melambatkan proses pemprosesan.
Mengapa ia sesuai untuk penggunaan dalam produksi
Dalam kilang yang memproses pelbagai jenis produk, stabiliti antara setiap batch merupakan cabaran utama. Platform ini membantu mengawal suhu pada setiap wafer, sekaligus meningkatkan ketepatan profil fotoresist dan mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer tersebut. Proses pemanasan yang lebih cepat membolehkan masa proses dipendekkan, sekaligus meningkatkan kelajuan pengeluaran.
Penjimatan tenaga yang dicapai dapat dirasai sepanjang masa operasi 24/7 – penggunaan tenaga per wafer menjadi lebih rendah, beban penyejukan juga berkurangan, dan kos operasi juga berkurang. Kebolehpercayaan platform ini telah terbukti melalui penggunaannya dalam proses pemprosesan yang berterusan, tanpa sebarang gangguan yang berkaitan dengan modul pemanasan selama beberapa bulan penggunaan.
Butiran praktikal
Pemasangan platform ini memerlukan sumber tenaga yang bersih serta sistem penyejukan yang efektif. Penggunaan kabel yang tidak sesuai atau perubahan suhu persekitaran yang tidak terkawal akan menjejaskan keseragaman hasil pemprosesan. Platform ini sesuai untuk kebanyakan jenis landasan, namun masih diperlukan ujian awal untuk memastikan segala parameter berfungsi dengan baik.
Anda boleh menjangkakan masa persiapan sekitar dua minggu untuk menyelaraskan platform ini dengan sistem litografi sedia ada, agar mencapai spesifikasi suhu dan kualiti yang diinginkan pada percubaan pertama.