Di bilik pengeluaran, proses pembakaran secara lembut dan keras bukan sekadar “langkah termal” semata-mata. Ia merupakan faktor yang mempengaruhi kualiti produk akhir. Perubahan suhu sebanyak 1°C pada wafer semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting wafer tersebut. Selain itu, penjanaan zarah semasa proses pemanasan boleh merosakkan wafer sebelum ia diproses lebih lanjut. Oleh itu, diperlukan pemanas yang mampu mengawal suhu dengan tepat, serta mematuhi peraturan yang ditetapkan di bilik bersih.
Kami membina pemanas untuk bilik pengeluaran ini menggunakan pelepas inframerah berfrekuensi rendah dan sistem pengudaraan paksa. Ini membolehkan suhu wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang kawasan pembakaran. Ketepatan suhu pula adalah ±0.5°C, jadi profil termal yang sama akan dicapai setiap kali proses pembakaran dilakukan.
Bahan-bahan yang digunakan dalam bilik pengeluaran ini tidak menghasilkan gas berbahaya, dan saluran udara juga sesuai untuk sistem HEPA. Ini memastikan jumlah zarah di dalam bilik kekal rendah, sesuatu yang sangat penting dalam proses pengeluaran yang canggih. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan komponen yang tahan lama dan jadual penyelenggaraan yang teratur agar tidak berlaku gangguan operasi.
Pemanas ini memerlukan sumber tenaga yang stabil, serta sistem pengudaraan yang mematuhi standard bilik bersih. Proses pembaikan mungkin memerlukan masa tertentu, dan antaramuka alat serta panel gas perlu disesuaikan dengan apa yang sudah ada.
Kami menyediakan pelan dimensi dan senarai semak untuk memudahkan proses integrasi. Namun, reka bentuk utiliti perlu dirancang lebih awal; jika tidak, ia akan menyebabkan kelewatan dalam proses pengeluaran.