Mehr Wärme für die Wafer Wenn man Wafer in einer Fertigungsanlage trocknet, ist es verlockend zu glauben, dass einfach nur die Leistung erhöht werden...

Auch eine leichte Temperaturänderung von 0,3 °C während des Weichbrennvorgangs verändert das Profil des Photoresists. Das zeigt sich unmittelbar im...