Capteur IR de précision pour wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:55:47 +0800

Pourquoi utilisons-nous la technologie de séchage par rayonnement infrarouge pour le traitement des wafer ?
Dans les usines de semi-conducteurs, être « propre » n’est pas seulement un objectif : c’est essentiel. Si même une petite quantité de résidus reste après le séchage, cela pose problème. C’est pourquoi nous avons recours à des capteurs et émetteurs infrarouges précis. Cela nous permet d’éviter complètement l’utilisation de solvants chimiques ou de chauffages à combustion.

Oubliez le chauffage de l’air.
La plupart des gens pensent aux fours, où l’air est chauffé afin que cette chaleur soit transmise au wafer. C’est lent et peu efficace. Le rayonnement infrarouge, lui, utilise des ondes électromagnétiques pour agir directement sur les molécules du substrat. C’est instantané. De plus, il n’y a pas de risque que des éléments chauffants provoquent la formation de saletés dans l’air de la salle de nettoyage. Si vous voulez respecter les normes environnementales ou éviter toute contamination métallique, c’est sans doute la seule solution possible.

Chauffage infrarouge de précision pour l électronique

Thu, 04 Jun 2026 01:19:29 +0800

Sur le plancher de fabrication, le séchage du photorésist n’est pas optionnel — c’est votre budget thermique. Augmentez la température de cuisson douce ou cuisson dure de seulement 2°C et observez la dérive du contrôle des dimensions critiques et du profil des parois latérales. L’uniformité au niveau de la plaquette est la ligne de démarcation entre un lot expédié et un lot mis au rebut.
Ce qui compte sous le capot
Nous avons conçu le chauffage infrarouge de précision autour d’une émission NIR et d’un design quartz-halogène, pour une réponse rapide et une stabilité maintenue. Le paramètre clé est l’uniformité thermique au niveau de la plaquette de ±0,1°C sur la zone de cuisson — mesurée au plan de la plaquette, et non à la surface du chauffage. Il est compatible avec les salles blanches de classes 1 à 100, grâce à l’utilisation de matériaux à faible dégazage et une architecture scellée sans particules. L’absence totale de génération de particules est vérifiée par métrologie in-situ lors des qualifications. Le système fonctionne 24/7 sans arrêt non planifié, et la répétabilité est assurée par une régulation en boucle fermée qui maintient chaque cycle dans les spécifications.
Pourquoi ce système fonctionne en lithographie et en packaging
En lithographie, un séchage doux constant est nécessaire pour ajuster la viscosité et l’adhésion du photorésist avant l’exposition. En packaging, la cuisson dure doit durcir sans dégazage ni délaminage. Ce chauffage maintient stable le profil de température, réduisant ainsi les variations d’une ligne à l’autre et d’un lot à l’autre. Le bénéfice : moins de retouches, une distribution des dimensions critiques plus serrée, et un rendement prévisible. La consommation énergétique diminue également — atteindre rapidement la consigne, maintenir sans dépassement, et contrôler la charge thermique de la chambre.
Les points à vérifier avant mise en service
L’installation consiste à adapter l’interface de l’outil et à vérifier la stabilité de la tension secteur ; la répétabilité dépend d’une tension réseau stable à ±2%. Les meilleures performances sont obtenues lorsque le chauffage est aligné au plan de la plaquette et que les réflecteurs restent propres. Prévoyez une courte phase de mise en route pour cartographier le profil thermique en fonction de votre chuck et pile process spécifiques.

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Capteur IR de précision pour wafer

Chauffage infrarouge de précision pour l électronique