Riscaldamento a semiconduttori a risparmio energetico

Wed, 01 Jul 2026 07:48:09 +0800

Nella fase di litografia, la cottura del fotorest non è semplicemente una fase preliminare; rappresenta invece un elemento fondamentale per il controllo dello spessore delle linee tracciate sul wafer. Se la temperatura della piattaforma di riscaldamento varia, anche l’uniformità del wafer ne risente, e aumenta notevolmente la quantità di materiali scartati.

Quello che davvero conta
Abbiamo progettato questa piattaforma di riscaldamento tenendo conto soprattutto di una cosa: la ripetibilità delle prestazioni termiche. Su tutto il superficie del wafer, la temperatura viene mantenuta entro valori compresi tra ±0,1°C, così da assicurare che i profili di cottura rimangano identici ogni volta che si esegue il processo. Il riscaldatore utilizza onde infrarosse a breve lunghezza d’onda, con componenti in quarzo, il che garantisce un rapido raggiungimento della temperatura desiderata e un buon collegamento termico, senza la formazione di punti caldi.

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