Mengapa Penggunaan Suhu Inframerah Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas untuk Proses Pemprosesan Wafer
Jika anda masih bergantung pada sistem pengudaraan panas untuk memproses wafer, sebenarnya anda sedang berjuang melawan hukum fizik.
Fikirkanlah. Dengan menggunakan udara panas, anda perlu memanaskan seluruh ruang di dalam bilik tersebut—setiap molekul udara di sana—sebelum wafer mula merasai haba tersebut. Proses ini sangat lambat. Dalam sebuah fasiliti pembuatan di mana setiap saat sangat berharga, kelewatan seperti ini merupakan halangan yang besar.
Rahsianya ialah mengelakkan penggunaan udara sebagai medium pemanasan.
Pemanasan menggunakan sinar inframerah tidak memerlukan udara. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Tidak perlu menunggu bilik tersebut “panas”. Prosesnya hampir serta-merta. Apabila anda menggunakan alat-alat yang berkuasa tinggi, mengurangkan masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer dapat membantu menjimatkan masa—dan seterusnya meningkatkan produktiviti setiap minggu.
Selain itu, kita semua pernah menghadapi masalah “titik sejuk” pada permukaan wafer. Sistem pengudaraan biasanya tidak dapat memanaskan setiap bahagian wafer dengan rata.
Dengan penggunaan sinar inframerah, anda boleh mengawal suhu di kawasan tertentu. Anda hanya perlu menyesuaikan kuasa lampu tersebut agar suhu menjadi lebih seragam. Ini bermakna anda tidak perlu lagi memanaskan bahagian tepi wafer secara berlebihan, asalkan bahagian tengahnya cukup panas.
Namun, ia bukanlah penyelesaian yang sempurna. Ada beberapa kelemahan.
Sinar inframerah sangat efektif, tetapi ia juga boleh menyebabkan suhu melebihi tahap yang diinginkan jika sistem kawalan suhunya tidak betul. Anda juga perlu memastikan sensor-sensor tersebut berfungsi dengan baik, kerana ia perlu dapat mengikuti perubahan suhu yang cepat.
Ingat juga: jika sistem penyejukan anda lemah, haba yang dihasilkan oleh sinar inframerah boleh merosakkan komponen alat tersebut.
Tetapi sejujurnya, bagi mana-mana fasiliti pembuatan yang ingin meningkatkan kapasitinya, inilah cara yang terbaik. Jangan cuba melawan hukum fizik. Kawallah sinar inframerah tersebut dan kurangkan masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan wafer.