<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengubati on Enhance Your Warm IR Life</title>
		<link>http://warm-ir-life.com/ms/tags/mengubati/</link>
		<description>Recent content in Mengubati on Enhance Your Warm IR Life</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:58:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-life.com/ms/tags/mengubati/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reflektor untuk lampu pengeringan wafer</title>
				<link>http://warm-ir-life.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:58:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-life.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-life.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Reflektor untuk lampu pengeringan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada tahap yang sangat sensitif ini, perubahan suhu sebanyak 0.3°C saja sudah &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;cukup&lt;/a&gt; untuk mengubah profil fotoresist tersebut. Kesan negatifnya dapat dilihat dengan segera, seperti kesilapan semasa proses litografi, peningkatan jumlah bahan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;buangan&lt;/a&gt;, serta kelewatan dalam jadual pengeluaran. Prestasi lampu pembakaran wafer bukan sekadar konsep teori semata-mata; ia memerlukan kawalan suhu yang tepat dan pencegahan penghasilan zarah-zarah berbahaya dalam proses tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami telah merancang reflektor khas untuk lampu pembakaran wafer jenis NIR, agar sinar cahaya yang dihasilkan dapat mencipta medan haba yang seragam pada wafer, dengan variasi suhu sekitar ±0.1°C. Ini membolehkan penghapusan kawasan yang terlalu panas serta masalah berkaitan tepi wafer. Dengan cara ini, keseimbangan haba dapat dipertahankan, sekaligus mempengaruhi proses pembakaran fotoresist secara positif.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
