Tenaga on Enhance Your Warm IR Life

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Mon, 20 Jul 2026 09:45:24 +0800

Menjaga Kebersihan Bilik Kelas 100 Semasa Proses Pemanasan Wafer
Jika anda sedang memanaskan wafer semikonduktor, anda pasti tahu bahawa kawalan suhu hanyalah separuh daripada cabaran yang perlu dihadapi. Masalah sebenar ialah kehadiran zarah-zarah halus. Dalam persekitaran Kelas 100, sekumpulan zarah halus yang terlepas dari komponen pemanasan sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan hasil pengeluaran anda. Ini sangat menyusahkan dan memerlukan kos yang tinggi.

Oleh itu, kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu inframerah kami. Cara ini dapat menghapuskan risiko tersebut sepenuhnya.

Audit tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Sat, 11 Jul 2026 05:38:28 +0800

Mengapa Kami Melakukan Ujian Stres pada Setiap Komponen Pemanas

Dalam lini pengeringan yang beroperasi dengan kapasiti tinggi, satu komponen pemanas yang rosak bukanlah masalah kecil. Ia merupakan bencana sebenar. Sekiranya terdapat kebocoran atau kerosakan pada komponen pemanas tersebut, ia boleh menyebabkan gangguan bekalan elektrik untuk seluruh lini pengeluaran, atau merosakkan komponen peralatan tersebut.

Itulah sebabnya kami tidak menggunakan kaedah sampel rawak. Kami tidak hanya memeriksa setiap sepuluh unit sahaja, tetapi setiap komponen pemanas perlu melalui ujian ketahanan dielektrik dan rintangan insulasi yang teliti sebelum ia dimasukkan ke dalam kotak penghantaran.

Pemanasan menggunakan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Wed, 01 Jul 2026 07:48:09 +0800

Di bahagian proses litografi, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah langkah yang dilakukan sebelum proses pemprosesan bermula. Sebaliknya, ia merupakan langkah penting untuk mengawal ketepatan garis lebar garisan yang dihasilkan. Jika suhu permukaan pemanas berubah, maka keseragaman kualiti CD juga akan terjejas, dan jumlah bahan sisa yang dihasilkan akan meningkat dengan cepat.

Apa yang benar-benar penting
Kami merancang platform pemanasan ini berdasarkan satu prinsip utama: prestasi suhu yang boleh dipercayai. Suhu pada permukaan wafer dapat dikekalkan dalam lingkungan ±0.1°C, agar profil pemanasan tetap sama setiap kali proses berulang. Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah jarak dekat bersama komponen kuarsa, sehingga memungkinkan peningkatan suhu dengan cepat tanpa adanya kawasan panas yang berlebihan.