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		<title>Curando on Enhance Your Warm IR Life</title>
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				<title>Refletor para lâmpada de cura de wafers</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-life.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Refletor para lâmpada de cura de wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, até mesmo uma mudança de 0,3°C no calor aplicado durante o processo de cura do fotoresist muda seu perfil. Isso se reflete imediatamente em erros na litografia, aumento da quantidade de materiais descartados e atrasos no cronograma de produção. O desempenho das lâmpadas de cura não é algo teórico – trata-se de um controle preciso da temperatura e de evitar a geração de partículas durante o processo.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante, do ponto de vista té&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;cnico&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Constru&lt;/a&gt;ímos um refletor ao redor das lâmpadas de cura de infravermelho próximo, de modo que o feixe de luz atinja a placa de forma uniforme, dentro de um campo térmico de sub-milímetro. A geometria do refletor garante um controle preciso da temperatura, com variações de até ±0,1°C, eliminando assim os pontos quentes e as diferenças de temperatura nas bordas da placa. Isso estabiliza o balanço térmico necessário para o processo de cura do fotoresist.&lt;/p&gt;</description>
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