Lampu RTP: Direka untuk tugas-tugas yang paling sukar dalam pemprosesan wafer semikonduktor
Mari kita bincangkan tentang lampu RTP ini. Lampu ini direka khusus untuk tugas-tugas yang paling mencabar dalam proses pemprosesan wafer semikonduktor. Tujuannya adalah untuk memberikan haba yang konsisten dan pada intensiti yang tinggi, tanpa menggunakan ruang yang banyak. Ketika proses berjalan dengan cepat, lampu ini akan terus berfungsi dengan efisien, setiap kali proses diulang.
Apa yang ada di dalamnya: Kuasa, voltan, dan reka bentuk yang sesuai
Semuanya berkaitan dengan kawalan suhu yang tepat. Kebanyakan sistem RTP industri beroperasi pada voltan 400V, dan ini merupakan pilihan yang disengajakan. Dengan cara ini, arus elektrik dapat dikurangkan, sekali gus mengurangkan kerugian voltan dan memastikan sambungan elektrik yang lebih baik.
Panjang lampu sebanyak 300mm bukanlah pilihan rawak. Panjang ini sesuai dengan saiz wafer standard, sehingga haba dapat diedarkan secara merata ke seluruh permukaan wafer. Kuasa yang digunakan juga disesuaikan agar dapat memenuhi keperluan proses tanpa membebankan sistem secara berlebihan.
Bahan-bahan yang digunakan
Tiub lampu diperbuat daripada kuarsa. Mengapa? Kerana kuarsa mampu menahan perubahan suhu yang mendadak tanpa masalah, dan ia juga mampu menghantar cahaya inframerah dengan efisien. Di bahagian dalam, sistem halogen membantu menjaga filamen lampu agar tetap stabil sepanjang masa. Tiada penggelapan atau penurunan prestasi. Hanya output yang konsisten, dari satu proses ke proses yang lain.
Selain itu, terdapat juga penyambung R7s. Ia merupakan penyambung dua pin yang memastikan lampu dapat dipasang dengan sempurna pada reflektor. Ini memberikan sambungan mekanikal dan elektrikal yang kukuh, sekaligus mengurangkan rintangan sentuhan. Apabila tiba masa untuk menukar lampu, ia boleh dilakukan dengan cepat, tanpa memerlukan alat khas.
Penggunaan sebenar: Di mana lampu ini digunakan
Di lapangan, lampu ini digunakan dalam chamber pemprosesan termal yang cepat. Ia memberikan haba yang cepat dan tepat untuk proses annealing serta pembuatan lapisan tipis. Saiznya yang kompak serta penyambung R7s membolehkannya dipasang dengan mudah pada pelbagai peralatan OEM, sekaligus mempercepat proses pertukaran lampu.
Anda akan mendapat kekuatan haba yang tinggi. Namun, haba tersebut perlu dialirkan ke suatu tempat. Chamber pemprosesan dan sistem penyejukan perlu cukup kuat untuk menangani hal ini. Jika sistem penyejukan tidak mencukupi, maka akan berlaku masalah seperti perubahan suhu yang tidak konsisten.
Kami fokus pada penyediaan haba yang efektif. Anda pula perlu membina sistem yang mampu menguruskan haba tersebut.