왜 웨이퍼 처리에 IR 경화 기술을 사용하는가?
반도체 공장에서 “청결”은 단순한 목표가 아니라 모든 것입니다. 건조나 경화 과정에서 조금이라도 잔여물이 남으면 문제가 생깁니다. 그래서 우리는 정밀한 IR 센서와 방출기를 사용합니다. 이를 통해 화학 용매나 연소식 가열기를 전혀 사용할 필요가 없습니다.
공기를 가열할 필요는 없습니다.
대부분의 사람들은 공기를 가열하여 그 열이 웨이퍼에 전달되기를 기대합니다. 하지만 이 방법은 매우 느리고 비효율적입니다.
IR 기술은 다릅니다. 전자기파를 이용해 기판 내부의 분자들을 직접 자극합니다. 따라서 즉시 반응이 일어납니다. 게다가 가열 요소가 있어서 청정실의 공기가 오염될 위험도 없습니다. 친환경적인 방식을 원하거나 금속 오염을 막고 싶다면, 이 방법이 유일한 해결책입니다.
전체 공간이 아닌 특정 부분만 가열합니다.
좋은 점은 파장을 조절할 수 있다는 것입니다. 웨이퍼 전체를 가열하는 대신, 접착제나 포토레지스트의 특정 흡수 대역만을 목표로 합니다. 따라서 굳이 큰 금속 장치를 가동시켜 에너지를 낭비할 필요가 없습니다. 또한 모듈이 매우 소형이기 때문에, 큰 대류식 오븐을 제거하고 공간을 확보할 수 있습니다. HVAC 시스템도 만족할 것입니다.
단점도 있습니다.
고강도 IR 광선은 효과적이지만, 온도 관리가 어렵습니다. 센서의 오차가 조금이라도 있으면 특정 부위가 과열될 수 있습니다. 그러면 웨이퍼가 변형될 수 있습니다. 이를 방지하기 위해서는 고속 PID 컨트롤러와 함께 사용해야 합니다.
마지막 팁: 배선에 신경을 써야 합니다. 차폐된 케이블을 사용하세요. 그렇지 않으면 EMI 노이즈가 센서에 영향을 주어 데이터가 왜곡될 수 있습니다. 작은 세부 사항이지만, 이것이 완벽한 제품과 폐기물로 가는 차이를 만듭니다.